作者：岡崎 信次
定價：NT$ 778
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光、電子線、Ｘ線・ＥＵＶなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べるとともに、パターン形成に重要なマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれる。変遷の激しいリソグラフィ技術の全貌を解説した入門書。【「TRC MARC」の商品解説】
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