《光場中的原子分子及鐳射技術》由汪正民所著，系統論述了原子多光子電離的相關理論基礎和研究方法，詳細討論了用光電子成像裝置測量光電子角分佈來研究原子光電離的特徵，重點講述瞭如何在實驗上獲得電子雲影像並由此確定原子光離化參數以及研究奇偶宇稱躍遷過程的量子乾涉。本書還以相當的篇幅介紹了原子鐳射光譜和分子紅外多光子離解研究的某些專題，詳細討論了無多普勒展寬高分辨鐳射光譜學的基本原理與研究方法。光學與鐳射技術方面的內容包括鐳射測距、風洞流場全息干涉測量以及法布裡一珀羅干涉儀(標準具)在光波長與光譜線寬測量、鐳射縱模選擇等方面的原理及應用。最後一章介紹在光學層析成像領域的最新研究成果。並詳細闡述了基於鐳射二維掃描系統和ccD照相機的非接觸光學層析成像實驗裝置及其在光學漫射層析成像和光學熒光層析成像中的應用。《光場中的原子分子及鐳射技術》讀者範圍包括從事原子分子物理、鐳射光學、光物理、光化學和光學層析成像研究的廣大科技工作者，以及相關專業的大學教師、研究生與大學生。

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