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布施 玄秀 (編著)

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ここまできたイオン注入技術 超LSIプロセスのリード役 (ケイブックス)

出版日期:1991-06-01
出版社:N/A
定價:566元,優惠價:566
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超LSIを支えるプロセス加工技術の中でもイオン注入技術は半導体プロセスに大きな革命をもたらしてきた。イオン注入の基礎とデバイス応用、さらに装置の内容について解説する。【「TRC MARC」の商品解説】 ...


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