第1章　諸論-顯示未來1-11.1　前言1-11.2　平面顯示世代1-21.3　液晶顯示器的發展與沿革1-31.4　無機發光二極體之發展1-91.5　小分子有機發光二極體之發展1-91.5.1　小尺寸SMOLED的之開發1-101.5.2　中大尺寸SMOLED的開發1-121.6　高分子有機發光二極體之發展1-131.7　主動式有機發光二極體的優勢1-181.7.1　輕薄省電1-211.7.2　反應速度1-231.7.3　數位影像1-24第2章　有機發光二極體應用與規格2-12.1　前言2-12.2　有機發光二極體應用2-22.2.1　手持式裝置顯示器2-32.2.2　車用顯示器2-32.2.3　筆記型電腦顯示器2-42.2.4　多媒體應用顯示器與監視器2-52.2.5　航空電子顯示器2-52.2.6　雷達顯示器2-62.2.7　醫療用顯示器2-72.2.8　平面電視2-82.3　面板解析度2-102.3.1　長寬比2-122.3.2　CIF與QCIF2-132.3.3　VGA與QVGA2-142.3.4　XGA與SXGA2-142.3.5　QUXGA與QUXGA-Wide2-152.3.6　HDTV2-152.4　綠色概念設計2-182.4.1　無鉛面板2-192.4.2　無汞面板2-202.4.3　無鉻面板2-202.4.4　省電設計2-20第3章　有機發光二極體顯示原理3-13.1　前言3-13.2　發光二極體顯示原理3-23.3　有機發光二極體顯示原理3-33.3.1　三元色發光原理3-53.3.2　白光發光原理3-53.4　元件結構3-63.4.1　陽極層3-83.4.2　電洞注入層3-93.4.3　電洞傳輸層3-93.4.4　發光層3-113.4.5　雙發光層3-133.4.6　電子傳輸層3-143.4.7　陰極層3-153.5　發光效率3-153.5.1　螢光發光3-173.5.2　磷光發光3-183.6　亮度加強3-203.6.1　對比度3-213.6.2　光加強結構3-233.6.3　微透鏡陣列3-243.6.4　透鏡製造方法3-263.7　色彩飽和度3-293.8　反應時間3-333.8.1　灰階對灰階時間3-343.8.2　影像殘留3-36第4章　有機發光二極體全彩技術4-14.1　前言4-14.2　彩色化製造流程4-24.3.　熱蒸鍍法4-44.3.1　真空熱蒸鍍架構4-44.3.2　點狀源與線狀源4-74.3.3　金屬遮罩定位4-84.3.4　金屬遮罩設計4-104.3.5　金屬遮罩精度4-124.3.6　遮罩清潔4-154.4　有機氣相沈積4-164.5　旋轉塗佈法4-184.6　噴墨印刷法4-204.6.1　噴墨頭設計4-224.6.2　噴墨準確度4-234.6.3　表面處理4-274.7　外在媒體變換法4-294.7.1　色轉換法4-294.7.2　RGB彩色濾光片法4-314.7.3　RGBW彩色濾光片法4-334.7.4　COA架構4-344.7.5　黑色矩陣設計4-354.8　轉印法4-354.8.1　雷射感熱成像4-354.8.2　奈米壓印技術4-36第5章　被動式矩陣背板技術5-15.1　前言5-15.2　被動式矩陣架構5-15.2.1　被動式面板限制5-35.2.2　有機發光二極體之整流比5-65.3　被動式SMOLED製造流程5-75.3.1　負型光阻製程5-75.3.2　剝脫製程5-85.3.3　整合型分離體製程5-95.4　被動式LEP製造流程5-115.5　被動式驅動系統5-125.5.1　灰階顯示5-145.5.2　預充電電路5-175.5.3　串音5-215.5.4　閃爍5-215.5.5　功率消耗5-225.6　驅動IC封裝5-235.6-1　自動捲帶封裝5-245.6.2　軟膜覆晶封裝5-245.6.3　玻璃覆晶封裝5-25第6章　主動式矩陣背板技術6-16.1　前言6-16.2　單晶矽電晶體6-26.3　低溫複晶矽薄膜電晶體6-26.3.1　線束型準分子雷射結晶6-76.3.2　循序性側向雷射結晶6-86.3.3　固態雷射結晶6-106.3.4　金屬誘發結晶型6-126.3.5　複合結晶型6-136.4　非晶矽薄膜電晶體6-136.4.1　光罩縮減製程6-156.4.2　半色調型光罩6-186.4.3　灰色調型光罩6-196.4.4　狹縫型光罩6-196.4.5　載子移動率6-206.4.6　微晶矽薄膜6-226.4.7　臨界電壓6-246.5　有機薄膜電晶體6-256.5.1　有機主動層6-266.5.2　電極結構6-306.5.3　接觸電阻6-316.5.4　導通電阻6-326.5.5　閘極絕緣層6-336.5.6　複合型閘極絕緣層6-336.5.7　絕緣層表面型態6-346.6　畫素發光架構6-356.6.1　下部發光型畫素6-366.6.2　上部發光型畫素6-386.6.3　雙面發光型畫素6-386.7　低阻值導線6-396.7.1　鋁金屬6-426.7.2　銅與銀金屬6-42第7章　有機發光二極體陽極製程7-17.1　前言7-17.2　陽極電極特性7-27.3　氧化銦錫7-57.3.1　成膜技術7-67.3.2　冷氧化銦錫7-97.3.3　薄膜導電性7-107.3.4　表面粗糙度7-117.4　氧化銦鋅7-127.4.1　成膜技術7-137.4.2　表面粗糙度7-147.5　氧化鋅7-157.5.1　成膜技術7-157.5.2　薄膜導電性7-167.6　堆疊型陽極7-167.7　反射型陽極7-177.8　微共振腔結構7-187.8.1　金屬鏡-金屬鏡型微共振腔7-187.8.2　金屬鏡-布拉格反射鏡型微共振腔7-217.9　陽極表面處理7-227.9.1　溼式與乾式處理7-227.9.2　底層表面形態7-257.9.3　基板平整性7-26第8章　有機發光二極體陰極製程8-18.1　前言8-18.2　陰極電極特性8-28.3　單層型陰極8-48.4　合金型陰極8-58.5　多層型陰極8-68.6　半穿透金屬型陰極8-78.7　對比加強架構8-88.7.1　圓形偏光架構8-108.7.2　光學增亮膜8-128.7.3　內部光學干涉8-138.7.4　抗反射層8-158.7.5　整合式黑色矩陣結構8-16第9章　主動式類比畫素設計9-19.1　前言9-19.2　畫素設計設定9-19.2.1　畫素間距9-29.2.2　畫素開口率9-59.2.3　RGB畫素排列架構9-59.2.4　RGBW畫素排列架構9-69.3　差異性衰減9-89.3.1　子畫素配置9-109.3.2　畫素驅動補償9-119.3.3　加瑪校正9-129.4　畫素驅動分類9-129.4.1　1T簡易型畫素9-139.5　電壓定義型畫素9-149.5.1　2T-1C畫素驅動9-159.5.2　修正型2T-1C畫素驅動9-169.5.3　3T-1C畫素驅動9-189.5.4　4T-2C畫素驅動9-199.6　電流定義型畫素9-229.6.1　4T-1C電流鏡畫素驅動9-229.6.2　4T-1C電流複製畫素驅動9-249.7　畫素補償架構9-25第10章　主動式數位畫素設計10-110.1　前言10-110.2　數位驅動設計10-210.3　面積比例灰階型10-210.3.1　畫框權重10-210.3.1　面積比例設計10-310.4　訊號時間比例灰階型10-510.4.1　顯示區間分離法10-510.4.2　顯示區間分離法畫素10-710.4.3　同步消除掃描法10-810.4.4　同步消除掃描法畫素10-910.5　時間面積混合比例灰階型10-10第11章　有機發光二極體封裝技術11-111.1　前言11-111.2畫素暗點11-211.2.1　壽命11-311.2.2　老化機制11-411.3　封裝規格需求11-611.4　外蓋封裝11-711.4.1　外蓋封裝製程11-811.4.2　外蓋材質11-1011.4.3　外蓋封口膠11-1311.4.4　乾燥劑11-1611.5　單層薄膜封裝11-1911.5.1　氧化矽膜封裝11-2311.5.2　氮化矽膜封裝11-2411.5.2　SiONx單層膜封裝11-2511.5.3　類鑽碳單層膜封裝11-2511.5.4　其他單層膜封裝11-2611.6　多層薄膜封裝11-2711.6.1　氮化矽/氮化碳多層膜封裝11-2711.6.2　氮化矽/氧化矽多層膜封裝11-2811.6.3　混合多層膜封裝11-2811.6.4　可撓曲封裝11-29第12章　有機發光二極體技術藍圖12-112.1　平面顯示技術藍圖12-112.2　有機發光二極體顯示器的未來12-512.4　結語12-8附錄A　RPI複晶矽薄膜電晶體模型參數A-1附錄B　RPI非晶矽薄膜電晶體模型參數B-1

第1章　諸論-顯示未來1-11.1　前言1-11.2　平面顯示世代1-21.3　液晶顯示器的發展與沿革1-31.4　無機發光二極體之發展1-91.5　小分子有機發光二極體之發展1-91.5.1　小尺寸SMOLED的之開發1-101.5.2　中大尺寸SMOLED的開發1-121.6　高分子有機發光二極體之發展1-131.7　主動式有機發光二極體的優勢1-181.7.1　輕薄省電1-211.7.2　反應速度1-231.7.3　數位影像1-24第2章　有機發光二極體應用與規格2-12.1　前言2-12.2　有機發光二極體應用2-22.2.1　手持式裝置顯示器2-32.2.2　車用顯示器2-32.2.3　筆記型電腦顯示器2-42.2.4　多媒體應用顯示...