半導體潔淨室黃光區(Photo area)異味問題，一直為國內高科技產業潔淨室工業安全衛生的困擾，輕微異味會引起勞工的報怨影響工作效率，發生嚴重異味時，甚至於暫時撤廠，每年發生的暫時撤廠，造成嚴重之停產損失。此外為了潔淨室的空氣品質，需要以大量的新鮮空氣稀釋，也需要使用的化學濾網去除環境中的揮發性有機氣體，有異味發生時，外氣稀釋量需要增加，同時也減少化學濾網的壽命，增加設施成本。本研究以系統性的方式，透過時序分析、區域分析、機台控制設備效能診斷與人員操作差異分析，並透過異味濃度與成分分析來探討黃光區異味之問題。本研究發現清潔保養為白天輝發性有機物濃度上升的主因，主要是清潔溶劑所導致的異味問題，主要發生於白天10點至11點於機台開始預防保養(Preventive Maintenance)前段，在假日與非假日有明顯差異，一星期的工作日中以星期一為濃度最高的工作日。於夜間無清潔保養干擾時，為機台與區域濃度分佈診斷的最佳時機，由區域分佈結果發現同樣機台濃度之間差異很大，於異常機台調查後發現管路銜接問題、管材劣化與機台下方有殘留化學液體是造成濃度偏高的重要原因。於維護保養作業的觀察與調查，發現導致異味的原因主要來自於真空吸塵器排放口所排出的光阻稀釋劑，建議必須將排放口設置專用的排氣口導入處理設備，避免直接排到潔淨室。於迴風區(Return air plenum)調查時發現有多種全氟化物(Perfluorochemicals)與白光區的空氣污染物，顯示潔淨室的空氣會有交錯污染的現象，對於特殊全氟機台擦拭溶劑的成分，本研究建立了有效之評估技術，但是建議使用單一型的溶劑取代這類混合型的全氟化物溶劑。

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