本書詳細介紹了真空鍍膜設備的設計方法與鍍膜設備各機構元件的設計計算、設計參數的選擇，其中重點、系統地介紹了磁控濺射靶的設計計算和濺射鍍膜的膜厚均勻性設計。全書共分13章，主要講解真空鍍膜室結構、鍍膜室工件架、真空鍍膜機的加熱與測溫裝置、真空鍍膜機的抽氣系統、真空室電和運動的導入結構、濺射鍍膜設備的充布氣系統、蒸發源、磁控濺射靶、濺射鍍膜的膜厚均勻性等方面的設計與計算。
本書有很強的實用性，適合真空鍍膜設備的設計製造、真空鍍膜設備的應用等與真空鍍膜技術有關的行業從事設計、設備操作與維護的技術人員使用，還可用作高等院校相關專業師生的教材及參考書。
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