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王建榮、林必窕、林慶福

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半導體平坦化CMP技術（修訂版）

作者：

王建榮、林必窕、林慶福

出版日期：2000-06-15
出版社：全華圖書股份有限公司
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本書介紹目前半導體最受矚目的化學機械研磨(CMP)平坦技術。本書由五個章節所構成，基本概念不斷的強調，所以讀者可從任何一章切入都能吸收並理解。本書的內容包含：CMP的重要性，CMP的定位與CMP研磨的 ...
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